智慧光罩及其曝光设备、曝光方法和曝光图案形成方法
公开
摘要
一种智慧光罩(120)及其曝光设备(l00)、曝光方法和曝光图案形成方法。智慧光罩(120)包括底板(l21)、多个第一微型发光二极管组件(122)以及保护层。多个第一微型发光二极管组件(122)以数组排列设置于与传统光罩之尺寸一致的底板(121)上，以基于从底板(l21)上的线路接收到的控制信号决定发光状态，籍以定义曝光图案。保护层覆盖于多个微型发光二极管组件(l22)的至少其中之一或多个上。多个第一微型发光二极管组件(l22)的尺寸和组件间距被设计为符合曝光制程的线宽要求，因此智慧光罩(120)尺寸可符合曝光设备(100)的光罩夹持部件(l30)要求。
基本信息
专利标题 ：
智慧光罩及其曝光设备、曝光方法和曝光图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114631060A
申请号 ：
CN202080063730.X
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-09-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杨朝舜黄靖文
申请人 ：
默司科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹县竹北市嘉政七街102号5楼
代理机构 ：
苏州智品专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
唐学青
优先权 ：
CN202080063730.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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