照明装置及曝光系统
授权
摘要
一种照明装置，包括：至少一个第一类光源，配置为产生波长在第一范围的第一类光束；至少一个准直透镜，配置为对所述第一类光束进行准直；第一类匀光组件，配置为对所述第一类光束进行匀光处理；第二类光源，配置为产生波长在第二范围的第二类光束；第二类匀光组件，配置为对所述第二类光束进行匀光处理；光混合组件，配置为将经过匀光处理的第一类光束和第二类光束进行混合处理；光偏转件，配置为将经过混合处理的第一类光束和第二类光束按预设角度进行偏转。本实用新型的有益效果是将两类光源产生的光束进行混合，在保证光能充足的情况下改善阻焊油墨的感光反应。
基本信息
专利标题 ：
照明装置及曝光系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021191573.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN213023937U
授权日 ：
2021-04-20
发明人 ：
张柯张雷李伟成
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021191573.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-04-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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