正四极照明曝光方法及其装置
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种正四极照明的曝光方法，用不变化参数的正四极照明连续扫描两块掩模版，所述两块掩模版的图形分别为图形的纵向线条和横向线条。本发明简化了两次曝光的工作流程，提高两次曝光的效率。
基本信息
专利标题 ：
正四极照明曝光方法及其装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1996146A
申请号 ：
CN200510003375.4
公开（公告）日 ：
2007-07-11
申请日 ：
2005-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
姚峰英
申请人 ：
上海集成电路研发中心有限公司;上海华虹（集团）有限公司
申请人地址 ：
201203上海市张江高科技园区碧波路177号华虹科技园4楼
代理机构 ：
上海智信专利代理有限公司
代理人 ：
王洁
优先权 ：
CN200510003375.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2018-12-21 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051231
授权公告日 : 20100324
终止日期 : 20171231
申请日 : 20051231
授权公告日 : 20100324
终止日期 : 20171231
2010-03-24 ：
授权
2009-01-28 ：
实质审查的生效
2007-07-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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