曝光装置和曝光方法
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摘要
本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置和曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1834789A
申请号 ：
CN200610065501.3
公开（公告）日 ：
2006-09-20
申请日 ：
2006-03-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
谷川央树常吉豪田尾正则伊藤徹泉田信也
申请人 ：
东丽工程株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李辉
优先权 ：
CN200610065501.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-07-22 ：
授权
2007-10-10 ：
实质审查的生效
2006-09-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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