曝光方法及装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种曝光装置，其更容易地进行在感光材料上形成二维图案的像时的各光束的成像位置的修正。该曝光装置将从光源(66)发出的光(Le)利用多个像素部(82)排列的空间光调制机构(80)进行空间光调制，并使上述空间光调制后的、与各像数部(82)对应的各光束(L1、L2...)分别利用第一成像光学系(51A)成像，然后利用第二成像光学系(51B)成像，从而在感光材料(30K)上形成二维图案的像，此时，利用第一成像位置修正部(40A)按每个光束单独地修正各光束利用第一成像光学系(51A)成像的成像位置，并且利用第二成像位置修正部(40B)按每个光束单独地修正各光束利用第二成像光学系(51B)成像的成像位置，从而使在上述感光材料(30K)上形成的二维图案的像与作为目的的二维图案一致。
基本信息
专利标题 ：
曝光方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101107573A
申请号 ：
CN200680003176.6
公开（公告）日 ：
2008-01-16
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
尾崎多可雄
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200680003176.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027 H05K3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2008-09-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-01-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
