曝光设备和曝光方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种曝光设备(10)包括光源单元(60)、数字微镜器件(90)、成像光学系统(50)以及一对楔形棱镜(54)，所述光源元件(60)用于发出曝光光线；所述数字微镜器件(90)用于基于图像信号、对从光源发出的曝光光线进行空间光调制；所述成像光学系统(50)用于以曝光光线在感光材料(12)上形成图像，所述曝光光线已经进行了空间光调制；所述楔形棱镜对(54)用于在用调制后的曝光光线在感光材料上形成图像时，通过改变调制后的曝光光线的光程长度来调焦。在所述成像光学系统(50)中，投影透镜的外围部分处的变形增加，并且包括中心部分的区域上的透镜的光学性能得到提高。仅通过投影透镜的基本上成矩形的包括其中心部分的区域、以调制后的曝光光线形成图像。
基本信息
专利标题 ：
曝光设备和曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101142534A
申请号 ：
CN200680008332.8
公开（公告）日 ：
2008-03-12
申请日 ：
2006-03-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冈崎洋二石川弘美
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张成新
优先权 ：
CN200680008332.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2008-12-03 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-03-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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