曝光设备
授权
摘要
本实用新型的曝光设备，通过设置台体套件及入料套件。若干L型定位凸起的设置，且各L型定位凸起上均设置有直角定位部，将菲林膜的四个边角一一对应与各直角定位部对准接触，再把PCB板的四个边角一一对应与各直角定位部对准接触，即可完成菲林膜与PCB板的精准对位，即各L型定位凸起均起到定位的作用，大大降低了因对位不准而产生的误差；此外，由于各L型定位凸起于远离玻璃滑板的位置处上均设置有圆角部，当封盖盖合时，封盖会与各L型定位凸起紧密接触，即封盖与玻璃滑板之间形成的空间小，容易保证曝光设备内部空间的真空率，让菲林膜与PCB板贴合的更加紧密；再者，若干散热槽体的设置能够增强曝光设备的散热性能。
基本信息
专利标题 ：
曝光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921877880.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-01
授权号 ：
CN211580329U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
方少平樊群森王欢许志件
申请人 ：
惠州市三立诚科技有限公司
申请人地址 ：
广东省惠州市仲恺高新区东江高新科技产业园东兴片区东祥南路1号(2号厂房)第一栋
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘羽
优先权 ：
CN201921877880.5
主分类号 ：
H05K3/06
IPC分类号 ：
H05K3/06 G03F7/20
法律状态
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
