曝光用透明光罩和曝光设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种曝光用透明光罩和曝光设备，曝光用透明光罩包括：光罩本体，所述光罩本体内设置有冷却腔，所述冷却腔内流动有气态或液态的冷却介质，所述光罩本体上还设置有与所述冷却腔连通的进口和出口。通过在光罩本体内设置冷却腔，并且通过冷却腔内流经的冷却介质，从而可以使透明光罩温度的变化小，如此不会引起透明光罩尺寸的变化，进而不会造成曝光图案的失真。并且，透明光罩温度的变化小，从而不会将热量传导给基板，也不会使基板产生更大的变形，进而可以避免曝光后的产品尺寸的失真以及产品的质量不稳定。

基本信息

专利标题：

曝光用透明光罩和曝光设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022142234.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-25

授权号：

CN213581730U

授权日：

2021-06-29

发明人：

周金东揭海欢孙万华

申请人：

南昌欧菲显示科技有限公司

申请人地址：

江西省南昌市昌北经济开发区黄家湖西路欧菲光科技园

代理机构：

北京景闻知识产权代理有限公司

代理人：

常鹏

优先权：

CN202022142234.3

主分类号：

G03F1/00

IPC分类号：

G03F1/00 G03F7/20