光罩及曝光装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种光罩及曝光装置,该光罩包括:基板,可以使光线穿过;光罩图案,设置在基板上,光罩图案包括图案部、边缘部以及引线;所述图案部和所述边缘部均不透光且均可以导电,所述图案部用于向被曝光物转印图案,所述边缘部与所述图案部间隔设置,所述边缘部具有接线端以便与外电路电连接;所述引线用于将所述图案部和所述边缘部电性连接在一起,且光线可以从所述引线与所述基板相接的一侧传播至所述引线远离所述基板的一侧。本实用新型提供的光罩中,光罩图案的图案部和边缘部均可以导电,且二者电性连接,使用时将边缘部的接线端接地,便可以将光罩上产生的电荷便可以从接线端导入大地,从而可以避免光罩上的图案被静电击伤。
基本信息
专利标题 :
光罩及曝光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020174445.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-14
授权号 :
CN211627999U
授权日 :
2020-10-02
发明人 :
李艳强王震许建勇
申请人 :
南昌欧菲显示科技有限公司
申请人地址 :
江西省南昌市小微工业园办公楼二楼
代理机构 :
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 :
陈秀丽
优先权 :
CN202020174445.2
主分类号 :
G03F1/40
IPC分类号 :
G03F1/40
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/38
具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F1/40
与静电放电有关的特征,例如围绕掩膜基板的抗静电涂料层或导电金属层
法律状态
2020-10-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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