光罩检测装置
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摘要
本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光罩检测装置。所述光罩检测装置包括：探测腔，用于容纳并检测光罩表面是否存在颗粒物；吹扫部，设置于所述探测腔的端部，用于对进入和/或退出所述探测腔的所述光罩进行气体吹扫，以去除所述光罩表面的颗粒物。本实用新型节省了光罩清洁的时间，提高了光罩清洁的效率；同时，避免了在晶圆上造成光刻缺陷，从而改善了光刻质量，提高了产品良率。
基本信息
专利标题 ：
光罩检测装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921396031.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-26
授权号 ：
CN210573186U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
范志祥
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN201921396031.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 B08B5/02
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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