光罩及曝光装置

授权

摘要

本实用新型涉及一种光罩及曝光装置，光罩包括：依次层叠的玻璃基板，线路层和防指纹膜；其中，线路层和防指纹膜共同形成有多个图形单元，以及包围多个图形单元的无效区；无效区设有裸露区，裸露区未被防指纹膜覆盖，以使至少部分的线路层暴露，便于静电导出。技术效果：在无效区设有未被防指纹膜覆盖的裸露区，如此设置，能够使得该位置的线路层暴露出来，在曝光过程中，裸露区与曝光装置的导电夹持部接触，使得光罩上的静电经由线路层，从裸露区导入到曝光装置中，通过曝光装置接地处理，从而将静电导入大地，减少累积在光罩中的静电，尽量避免击伤防指纹膜及线路层，提高光罩的使用寿命。

基本信息

专利标题：

光罩及曝光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920716324.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-05-16

授权号：

CN210052016U

授权日：

2020-02-11

发明人：

李艳强王平王震于国华

申请人：

南昌欧菲显示科技有限公司

申请人地址：

江西省南昌市小微工业园办公楼二楼

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

唐清凯

优先权：

CN201920716324.3

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20