一种用于双面曝光的光罩盒装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于双面曝光的光罩盒装置,涉及半导体晶圆加工领域,包括上盒和下盒,所述上盒包括上金属框架,所述上金属框架的底部设置有第一超白玻璃板,并且第一超白玻璃板底部的对角位固定连接有上定位销,所述下盒包括下金属框架,所述下金属框架的顶部设置有第二超白玻璃板,并且下金属框架和第二超白玻璃板内部的对角位开设有定位凹槽,所述第二超白玻璃板的顶部设置有下菲林光刻图形薄膜,并且下菲林光刻图形薄膜的顶部设置有上菲林光刻图形薄膜。本实用新型结构简单,操作简便,生产效率高,成本低,光罩图形与晶圆结合紧密性好,有效地提高光刻线条的清晰度及线宽精准度。
基本信息
专利标题 :
一种用于双面曝光的光罩盒装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921382806.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-24
授权号 :
CN210222478U
授权日 :
2020-03-31
发明人 :
王坚红徐明成陈锋黄国军王锋
申请人 :
常山弘远电子有限公司
申请人地址 :
浙江省衢州市常山县金川街道柚都北路2号
代理机构 :
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈娟
优先权 :
CN201921382806.6
主分类号 :
G03F1/66
IPC分类号 :
G03F1/66 G03F1/00 G03F9/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/66
专门适用于掩膜,空白掩膜或薄膜的容器;其制备
法律状态
2020-03-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN210222478U.PDF
PDF下载