双列双面曝光机
授权
摘要
本实用新型的双列双面曝光机，包括设置于机架上的第一传送装置、第一曝光装置、第二传送装置、第二曝光装置和第三传送装置。第一传送装置用于进料，第二传送装置对接第一曝光装置和第二曝光装置，第三传送装置用于出料。第一传送装置、第二传送装置和第三传送装置均包括并列设置的两传送机构。第一曝光装置包括两第一曝光平台和两第一曝光模组，两第一曝光模组共用一个第一光源组件。第二曝光装置包括两第二曝光平台和两第二曝光模组，两第二曝光模组共用一个第二光源组件。本实用新型的双列双面曝光机，可以双列四工位进行曝光，不仅效率高，而且部分部件共用，节约了成本。本实用新型的双列双面曝光机，结构合理效率高。
基本信息
专利标题 ：
双列双面曝光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122704687.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-05
授权号 ：
CN216248759U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
梁添贵倪沁心陈铁玉陈建明
申请人 ：
广东华恒智能科技有限公司
申请人地址 ：
广东省东莞市南城街道白马振兴工业区先锋2路2号彼联科技园B栋0202
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
张艳美
优先权 ：
CN202122704687.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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