一种基板双面定位曝光工装
授权
摘要
本实用新型涉及机械加工技术领域,且公开了一种基板双面定位曝光工装,包括下沉台阶,所述下沉台阶的四角设有下沉细棱,所述下沉台阶的顶部活动连接有上沉台阶,所述上沉台阶的四角设有上沉细棱,所述上沉台阶的底端固定连接有连接件,所述连接件通过定位靶标与下沉台阶活动连接,所述上沉台阶位于连接件的上方活动连接对位靶标。该基板双面定位曝光工装,通过设置有定位靶标,定位靶标的设置即可以快速将曝光工装的两端进行整合,使得曝光工装能够快速进行定位,而且这种曝光工装还设置有对位靶标,这种对位靶标能够将该曝光工装与模具进行快速的对位安装,从而不用每次曝光都需要人工手动进行人工定位。
基本信息
专利标题 :
一种基板双面定位曝光工装
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920564181.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-04-24
授权号 :
CN209496240U
授权日 :
2019-10-15
发明人 :
连大学
申请人 :
南通卓力达金属科技有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市南通高新技术产业开发区金川路268号
代理机构 :
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司
代理人 :
尚欣
优先权 :
CN201920564181.9
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2019-10-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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