曝光定位装置

授权

摘要

本实用新型属于掩模版制造领域，尤其涉及一种曝光定位装置，包括定位结构本体，定位结构本体具有相对设置的贴合面和安置面，贴合面为平面且与支撑平面相贴合，贴合面开设有气压汇集槽，气压汇集槽与各吸孔均连通，安置面开设用于供环形掩模版放置的安置槽，安置槽的槽底为平面，且平行于贴合面，安置槽的截面形状与环形掩模版的外环形状相匹配，安置槽的槽底开设有多个引气孔，各引气孔均连通至气压汇集槽，各引气孔均与环形掩模版相对设置。本实用新型解决了技术中对环形掩模版的定位容易存在吸力不足的问题，进而避免环形掩模版上的掩模图像错位，提高环形掩模版上的掩模图像质量。

基本信息

专利标题：

曝光定位装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021577174.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-07-31

授权号：

CN212515346U

授权日：

2021-02-09

发明人：

叶小龙侯广杰

申请人：

深圳市龙图光电有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼

代理机构：

深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

寇闯

优先权：

CN202021577174.1

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20