曝光装置
授权
摘要
本申请涉及一种曝光装置，包括：液晶显示掩膜；控制器，与所述液晶显示掩膜连接，用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案；光源，设置于所述液晶显示掩膜的一侧，所述光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面射出第二出射光；其中，所述第二出射光用于照射被曝光物，以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案。本申请中液晶显示掩膜显示预设的图案不需要使用额外的耗材，成像简单、成本低且成像的准确度高，因而能够有效地降低曝光成本，并提高曝光精确度。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021749020.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-20
授权号 ：
CN212586695U
授权日 ：
2021-02-23
发明人 ：
李世波
申请人 ：
深圳市爱普拓思科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区科技园南12号曙光大厦3C
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
罗平
优先权 ：
CN202021749020.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02F1/133
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-02-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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