曝光装置
专利权的终止
摘要
本发明公开了一种曝光装置，该装置包括用于在其表面上接纳基板的卡盘，位于卡盘中并且能够上下移动以向卡盘上加载基板并且从卡盘卸载基板的多个第一起模顶杆，以及位于卡盘中并且用于释放卡盘和基板的静电电荷的多个第二起模顶杆。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1797209A
申请号 ：
CN200510126151.2
公开（公告）日 ：
2006-07-05
申请日 ：
2005-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金勇焕
申请人 ：
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200510126151.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2019-11-15 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051130
授权公告日 : 20090909
终止日期 : 20181130
申请日 : 20051130
授权公告日 : 20090909
终止日期 : 20181130
2009-09-09 ：
授权
2006-08-30 ：
实质审查的生效
2006-07-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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