浸没液体、曝光装置及曝光方法
授权
摘要
提供了一种浸没液体，包括：具有相对较高蒸汽压力的离子形成成分，例如酸或基剂。还提供了使用该浸没液体的光刻方法和光刻系统。
基本信息
专利标题 ：
浸没液体、曝光装置及曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN102262361A
申请号 ：
CN201110254562.5
公开（公告）日 ：
2011-11-30
申请日 ：
2006-02-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
汉斯·詹森马克·凯尔特·斯坦温哥杰克布思·约翰纳思·利昂纳得斯·亨朱克思·沃斯贝弗朗西斯克思·约翰内思·圣约瑟·詹森安东尼·奎吉普
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
吴敬莲
优先权 ：
CN201110254562.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2013-12-25 ：
授权
2012-01-11 ：
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101169310553
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2011102545625
申请日 : 20060206
号牌文件序号 : 101169310553
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2011102545625
申请日 : 20060206
2011-11-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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