曝光方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种曝光方法，适用于一种偏轴照明系统。此方法是先提供一个具有第一图案与第二图案的光罩，并对此光罩进行分析以得到分别对应第一图案的第一光源强度分布与对应第二图案的第二光源强度分布。提供数个光束经过此光罩的第一图案而形成数个第一影像，以取得相对应的第一光源强度分布。接着，提供数个光束经过光罩的第二图案而形成数个第二影像，以取得相对应的第二光源强度分布。将光源调整为第一光源强度分布，以对此光罩的第一图案进行曝光。然后，将此偏轴照明系统的光源调整为第二光源强度分布，以对此光罩的第二图案进行曝光。
基本信息
专利标题 ：
曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1952783A
申请号 ：
CN200510118117.0
公开（公告）日 ：
2007-04-25
申请日 ：
2005-10-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林俊羽
申请人 ：
茂德科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学工业园
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
魏晓刚
优先权 ：
CN200510118117.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-01-27 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-06-13 ：
实质审查的生效
2007-04-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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