曝光方法及曝光系统

授权

摘要

本申请提供一种曝光方法和曝光系统。曝光方法用于对放置在平台上的多个基板同时曝光，包括获取基板上的多个标记图案在基板的图形坐标系中的图形坐标；移动相机和平台，当相机抓取到标记图案时，获取相机的移动位置在世界坐标系中的世界坐标和平台的第一移动距离，以确定各标记图案的世界坐标；根据各标记图案的图形坐标和世界坐标计算基板的图形坐标系与世界坐标系的映射关系；计算全部基板的图形坐标系与世界坐标系的映射关系；根据映射关系对曝光图形变换处理，使变换后的曝光图形呈现到与各基板相对应的位置进行曝光。上述曝光方法可适应不同的基板尺寸，同时对多个基板进行曝光，提高生产效率。

基本信息

专利标题：

曝光方法及曝光系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111999990A

申请号：

CN202010913465.1

公开（公告）日：

2020-11-27

申请日：

2020-09-03

授权号：

CN111999990B

授权日：

2022-04-01

发明人：

廖绍良胡传武张雷

申请人：

苏州源卓光电科技有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

宋永慧

优先权：

CN202010913465.1

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20