检测装置和方法、曝光装置、曝光系统和物品制造方法
公开
摘要
本公开涉及检测装置和方法、曝光装置、曝光系统和物品制造方法。提供了一种检测在基板上形成的标记的检测装置。检测装置包括将光照射在由台保持的基板上的标记上并检测标记的图像的检测光学系统，以及基于标记的图像执行标记的检测过程的处理器。处理器基于标记的图像找到指示标记在检测光学系统的观察场中的位置的检测值，在观察场中的多个子区域中找到标记所在的子区域，以及基于分别为多个子区域预先确定的校正值中与找到的子区域对应的校正值来校正检测值。
基本信息
专利标题 ：
检测装置和方法、曝光装置、曝光系统和物品制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624969A
申请号 ：
CN202111460846.X
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2021-12-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
木岛和也
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
汪晶晶
优先权 ：
CN202111460846.X
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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