曝光装置、及元件制造方法
专利权的终止
摘要
能管理位置测量用标记未存在的移动体的位置。将以可拆装方式搭载既定形状的板件(50)的移动体(WST)的位置，以供界定其移动座标系统的测量装置(18等)来测量，并以对准系统(ALG)检测板件(50)的一部分，根据其检测结果与对应的该测量装置的测量结果，来取得板件(50)外周边缘的位置资讯。据此，即使于该移动体(WST)上位置测量用的标记(基准标记)等未存在，仍可根据板件外周边缘的位置资讯，在以该测量装置所界定的移动座标系统上管理板件的位置，亦即移动体的位置。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置、及元件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN103149803A
申请号 ：
CN201310020306.9
公开（公告）日 ：
2013-06-12
申请日 ：
2005-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安田雅彦杉原太郎
申请人 ：
尼康股份有限公司
申请人地址 ：
日本东京都千代田区丸之内3丁目2番3号
代理机构 ：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
寿宁
优先权 ：
CN201310020306.9
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-10-30 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051118
授权公告日 : 20160330
终止日期 : 20191118
申请日 : 20051118
授权公告日 : 20160330
终止日期 : 20191118
2016-03-30 ：
授权
2013-07-17 ：
实质审查的生效
号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101490726560
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2013100203069
申请日 : 20051118
号牌文件序号 : 101490726560
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2013100203069
申请日 : 20051118
2013-06-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
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