板构件，基板保持装置，曝光装置及曝光方法，以及元件制造方法

板构件，基板保持装置，曝光装置及曝光方法，以及元件制造方...

专利权的终止

摘要

基板保持具PH，具备：第1保持部PH1，是保持基板P；板构件T的内侧面Tc，是透过既定间隙A与保持于第1保持部PH1的基板P侧面Pc相对向，具有拨液性；以及去角部C，是设于内侧面Tc上部。于基板P的侧面Pc设有具拨液性的拨液区域，去角部C，设置成与保持于第1保持部PH1的基板P的拨液区域相对向。藉此，提供一种可抑制液体渗入基板背面侧的基板保持装置。

基本信息

专利标题：

板构件，基板保持装置，曝光装置及曝光方法，以及元件制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1957443A

申请号：

CN200680000262.1

公开（公告）日：

2007-05-02

申请日：

2006-03-20

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

长坂博之藤原朋春

申请人：

尼康股份有限公司

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中国商标专利事务所有限公司

代理人：

万学堂

优先权：

CN200680000262.1

主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

H01L21/027 H01L21/683 G03F7/20