基板保持板和曝光装置
公开
摘要
本发明涉及基板保持板和曝光装置。基板保持板具有基板保持表面。基板保持板包括：基部；和突起，所述突起相对于基部设置在基板保持表面侧并且支撑基板。至少突起的最上表面是粗糙表面。基部或突起具有第一部分。突起具有硬度比第一部分的硬度高的第二部分。第二部分设置在与粗糙表面的顶部相距距离D的范围内。距离D小于该顶部和与该顶部相邻的底部之间的高度差H。
基本信息
专利标题 ：
基板保持板和曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114563925A
申请号 ：
CN202111417544.4
公开（公告）日 ：
2022-05-31
申请日 ：
2021-11-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
荒井一浩福井慎次龙野俊直
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
朱巧博
优先权 ：
CN202111417544.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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