曝光机的基板支撑结构

专利权的终止

摘要

本实用新型有关于一种曝光机的基板支撑结构，可避免曝光机上的基板承载平台因为长期使用所累积的静电，使基板因静电效应而在取出时移位造成破片。本实用新型的曝光机的基板支撑结构，包括：一具有复数个支撑垫的平台；一具有一驱动杆与复数个基板支撑顶针的基座，且基板支撑顶针用以支撑或承接基板；以及至少二个基板支撑挡板，其设置的距离小于基板的最大边长；且基板支撑挡板高度小于基板支撑顶针的高度。当基板因平台上的静电效应发生下弯或变形，基板会与基板支撑挡板的一顶面接触，减低基板因静电效应发生的弯曲或变形。

基本信息

专利标题：

曝光机的基板支撑结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620117021.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-06-02

授权号：

CN2919303Y

授权日：

2007-07-04

发明人：

陈昱东杨天宏

申请人：

广辉电子股份有限公司

申请人地址：

台湾省桃园县

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

杨俊波

优先权：

CN200620117021.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G02F1/1333