曝光机曝光框的定位结构
专利权的终止
摘要
本实用新型提供一种曝光机曝光框的定位结构，包括上框、下框；下框设有定位孔，上框相对设置有定位柱；该定位孔是由两个定位块构成，两个定位块对称设置在一框形座，且两个定位块的相邻侧设有导轮，至少一定位块为活动定位块，以借助调整件调整定孔的形成位置；具有上框盖合定位精准且不妨碍待曝光物件取放的功效。
基本信息
专利标题 ：
曝光机曝光框的定位结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200620137333.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2006-09-22
授权号 ：
CN200965622Y
授权日 ：
2007-10-24
发明人 ：
张鸿明
申请人 ：
张鸿明
申请人地址 ：
中国台湾
代理机构 ：
天津三元专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
胡婉明
优先权 ：
CN200620137333.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2016-11-09 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101687188677
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL200620137333X
申请日 : 20060922
授权公告日 : 20071024
终止日期 : 20150922
号牌文件序号 : 101687188677
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL200620137333X
申请日 : 20060922
授权公告日 : 20071024
终止日期 : 20150922
2008-01-16 ：
专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 张鸿明
变更后权利人 : 川宝科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾,邮编 :
变更后 : 中国台湾,邮编 :
登记生效日 : 20071207
变更前权利人 : 张鸿明
变更后权利人 : 川宝科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 中国台湾,邮编 :
变更后 : 中国台湾,邮编 :
登记生效日 : 20071207
2007-10-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN200965622Y.PDF
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