一种用于光线曝光中心的定位装置
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摘要

本实用新型属于光线曝光技术领域,尤其为一种用于光线曝光中心的定位装置,包括曝光头,所述曝光头下方设有导光连接座,所述导光连接座上设有光罩,所述导光连接座下方设有调节支座,所述导光连接座外侧壁固定连接有辅助侧框,所述辅助侧框内侧滑动连接有两个支撑侧杆,两个所述支撑侧杆呈对称分布,两个所述支撑侧杆底部均固定连接有定位板;当调节支座上的工件与光罩倾斜时,调节支座调节角度,可以使两个支撑侧杆在调节槽内滑动,连接杆的作用能够使两个支撑侧杆一起移动,使定位板的端面贴合在调节支座的端面上,从而可以校正调节支座的角度,使调节支座上的工件与光罩平行,能够提高调整角度的精准度和曝光作业的效果。

基本信息
专利标题 :
一种用于光线曝光中心的定位装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020107955.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-17
授权号 :
CN211180530U
授权日 :
2020-08-04
发明人 :
陈斌
申请人 :
北京捷安特技术服务有限公司
申请人地址 :
北京市怀柔区九渡河镇黄坎村731号
代理机构 :
北京智行阳光知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
黄锦阳
优先权 :
CN202020107955.8
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-08-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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