双台轮换曝光精密定位系统

专利权的终止

摘要

本实用新型公开了一种双台轮换曝光精密定位系统，至少包括基台、设置在基台上并运行于预处理工位的硅片台定位单元、运行于曝光工位的硅片台定位单元，每个硅片台定位单元至少包括硅片台、运动定位检测装置、X向导轨、Y向导轨、线性光栅。该系统的预处理工位和曝光工位均设置有两个X向导轨，所述X向导轨位于Y向导轨上方，可沿Y向导轨运动，相邻工位的X向导轨可进行对接。有益效果是：硅片台的交换路径短，导轨受力均匀，受工位尺寸约束小，极大地提高了系统的交换速度，运行精度和可扩展性。同时，本实用新型的结构不需采用额外的防碰撞装置，简化了系统，降低了成本，有效地提高了可靠性。

基本信息

专利标题：

双台轮换曝光精密定位系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200620044000.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2006-07-18

授权号：

CN2938172Y

授权日：

2007-08-22

发明人：

李映笙李小平杨志勇关俊高少文孙文凤李刚蔡燕民

申请人：

上海微电子装备有限公司

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

代理机构：

上海智信专利代理有限公司

代理人：

王洁

优先权：

CN200620044000.2

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F9/00