一种双工作台曝光机的曝光方法
授权
摘要
一种双工作台曝光机的曝光方法，所述曝光机包括第一工作台和第二工作台，首先对同批次的基板正面曝光：将基板正面向上放置于任一工作台上，曝光机构在基板正面曝光图形，通过背面靶标装置在PCB板背面制作背面对位标记；再对该批次基板反面曝光：将基板背面向上放置于任一工作台上，对位机构抓取背面对位标记，控制机构根据所述背面对位标记的图形确定曝光补偿值，曝光机构根据控制机构确定的曝光补偿值在基板背面曝光图形。通过采用不同的背面对位标记实现反面曝光的精确补偿，使得正反面图形精确对准，满足高精度的应用需求。
基本信息
专利标题 ：
一种双工作台曝光机的曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112631080A
申请号 ：
CN202011521970.8
公开（公告）日 ：
2021-04-09
申请日 ：
2020-12-21
授权号 ：
CN112631080B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
肖敏廖绍良夏天张雷
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011521970.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2021-04-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201221
申请日 : 20201221
2021-04-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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