曝光装置、曝光方法及组件制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置、曝光方法及组件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101487981A
申请号 ：
CN200910008214.2
公开（公告）日 ：
2009-07-22
申请日 ：
2005-10-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
长坂博之
申请人 ：
株式会社尼康
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
许海兰
优先权 ：
CN200910008214.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2012-01-04 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101258336755
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2009100082142
公开日 : 20090722
号牌文件序号 : 101258336755
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2009100082142
公开日 : 20090722
2009-09-16 ：
实质审查的生效
2009-07-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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