移动体系统、曝光装置及组件制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
基本信息
专利标题 ：
移动体系统、曝光装置及组件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101576716A
申请号 ：
CN200910132529.8
公开（公告）日 ：
2009-11-11
申请日 ：
2005-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
依田安史柴崎祐一荒井大
申请人 ：
株式会社尼康
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
许海兰
优先权 ：
CN200910132529.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G12B5/00 H01L21/68
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2017-06-30 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101754607423
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2009101325298
申请公布日 : 20091111
号牌文件序号 : 101754607423
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2009101325298
申请公布日 : 20091111
2010-01-06 ：
实质审查的生效
2009-11-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN101576716A.PDF
PDF下载
