曝光装置以及物品制造方法
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摘要
本发明提供曝光装置以及物品制造方法。曝光装置具有第1温度调节机构(113)和第2温度调节机构(211)，第1温度调节机构(113)通过向收容投影光学系统(104)的镜筒(110)的内部供给气体来调节镜筒内部的温度，第2温度调节机构(211)通过向被设置在对构成投影光学系统的光学元件(201)进行保持的保持部件(206)中的流路(209)供给液体来调节光学元件以及保持部件的温度，其中，第1温度调节机构的目标温度和第2温度调节机构的目标温度不同。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置以及物品制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109634064A
申请号 ：
CN201811127037.5
公开（公告）日 ：
2019-04-16
申请日 ：
2018-09-27
授权号 ：
CN109634064B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
安永大辅西川原朋史浅田克己柴田雄吾
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
李鹏宇
优先权 ：
CN201811127037.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2019-11-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20180927
申请日 : 20180927
2019-04-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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