光源装置、照明装置、曝光装置、照射装置以及物品的制造方法
公开
摘要
本发明涉及光源装置、照明装置、曝光装置、照射装置以及物品的制造方法。降低从多个LED芯片发出的光的发光分布的不均。具有：基板；发光元件，排列于所述基板的第1面；以及光学部件，是配置得比所述基板更靠所述第1面侧、在与所述基板之间形成第1流路的部件，使从所述发光元件射出的光聚集，冷媒在所述第1流路中流过的方向是与冷媒在第2流路中流过的方向相反的方向，所述第2流路形成得比所述基板更靠作为与所述第1面相反的面的第2面侧。
基本信息
专利标题 ：
光源装置、照明装置、曝光装置、照射装置以及物品的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488702A
申请号 ：
CN202111238372.4
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-10-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
大场森晓
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
程晨
优先权 ：
CN202111238372.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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