曝光装置以及物品制造方法
实质审查的生效
摘要
在进行基板的扫描曝光的曝光装置中，利用来自光源(1)的光对原版(24)的被照明面进行照明的照明光学系统具有：衍射光学元件(6)，在预定面上通过衍射作用变换来自所述光源(1)的光束的光强度分布；第1遮光部(18)，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧散焦后的位置；以及第2遮光部(20)，配置于从所述被照明面的所述共轭面向所述被照明面侧散焦后的位置。所述衍射光学元件(6)具有以下衍射特性：针对由所述第1遮光部(18)和所述第2遮光部(20)在所述被照明面上产生的、对通过所述扫描曝光对某一点进行照明的期间中的入射角度分布进行累计而得到的累计入射角度分布，降低所述扫描曝光的扫描方向和与该扫描方向正交的非扫描方向之差。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置以及物品制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114286966A
申请号 ：
CN202080060758.8
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2020-08-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
中山谅小林大辅
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
程晨
优先权 ：
CN202080060758.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200805
申请日 : 20200805
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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