曝光装置以及物品的制造方法
公开
摘要
提供一种曝光装置，该曝光装置一边使原版和基板在扫描方向上移动，一边对所述基板进行曝光，其特征在于，具有利用来自光源的光对所述原版的被照明面进行照明的照明光学系统，所述照明光学系统包括：第1遮光部，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧离开的位置；第2遮光部，配置于从所述共轭面向所述被照明面侧离开的位置；以及遮蔽部，配置于所述第1遮光部与所述第2遮光部之间，划定所述被照明面的照明范围，沿着所述照明光学系统的光轴的方向上的所述共轭面与所述第1遮光部之间的第1距离以及沿着所述光轴的方向上的所述共轭面与所述第2遮光部之间的第2距离的和是5mm以上并且20mm以下，所述第1遮光部以及所述第2遮光部被配置成所述第1距离和所述第2距离不同。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置以及物品的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114303101A
申请号 ：
CN202080060934.8
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2020-07-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小林大辅
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
程晨
优先权 ：
CN202080060934.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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