本发明更有利地防止在被照射表面上的光强度分布中重心光线的偏离。扫描曝光装置的照明光学系统具有第一遮光单元(18)和第二遮光单元(19)，第一遮光单元包括第一和第二遮光构件，第一和第二遮光构件之间在扫描方向上的相对距离可变并且第一和第二遮光构件均具有在扫描方向上面向另一构件的端部的端部，第二遮光单元包括第三和第四遮光构件，第三和第四遮光构件之间在扫描方向上的相对距离可变并且第三和第四遮光构件均具有在扫描方向上面向另一构件的端部的端部。第一遮光单元和第二遮光单元分别布置在朝向光源侧和朝向非照射表面侧离开被照射表面的共轭平面的位置处。在垂直于扫描方向的方向上共轭平面中的预定位置，第一和第二遮光构件的互相面对的端部的中点与包括照明光学系统的光轴且与扫描方向垂直的平面之间的第一距离与上述平面与第三和第四遮光构件的互相面对的端部的中点之间的第二距离一致。