曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法
授权
摘要
本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101052922A
申请号 ：
CN200680001103.3
公开（公告）日 ：
2007-10-10
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
加藤正纪清水贤二户口学渡边智行
申请人 ：
株式会社尼康
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
陈亮
优先权 ：
CN200680001103.3
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2009-10-14 ：
授权
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2007-10-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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