照明装置、曝光装置以及微元件的制造方法
专利权的视为放弃
摘要
一种照明装置，是借由自光源(5)射出的照明光而对被照射面(M)进行照明的照明装置，其包括：入射侧反射型复眼光学系统(12)，其借由将多数个反射型部分光学系统平行配置而构成；射出侧反射型复眼光学系统(14)，其借由将分别与构成入射侧反射型复眼光学系统(12)的多数个反射型部分光学系统相对应的多数个反射型部分光学系统平行配置而构成；聚光器光学系统(18、20)，其将由射出侧反射型复眼光学系统(14)所反射的照明光导向被照射面(M)，聚光器光学系统(18、20)含有两个反射镜，且两个反射镜的曲率中心至少一方，光学性偏向于被照射面(M)的照明区域中心的法线。
基本信息
专利标题 ：
照明装置、曝光装置以及微元件的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101006557A
申请号 ：
CN200580028235.0
公开（公告）日 ：
2007-07-25
申请日 ：
2005-11-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
小松田秀基
申请人 ：
株式会社尼康
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
左一平
优先权 ：
CN200580028235.0
主分类号 ：
H01L21/027
IPC分类号 ：
H01L21/027 G02B19/00 G02B5/10 G03F7/20
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/027
未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
法律状态
2010-11-03 ：
专利权的视为放弃
号牌文件类型代码 : 1606
号牌文件序号 : 101012883331
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005800282350
放弃生效日 : 20070725
号牌文件序号 : 101012883331
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2005800282350
放弃生效日 : 20070725
2007-09-19 ：
实质审查的生效
2007-07-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
