光源装置、曝光装置和物品制造方法
公开
摘要
本发明涉及一种光源装置，包括：保持器，所述保持器构造成保持灯，所述灯包括具有柱形表面的金属基部；聚光镜，所述聚光镜构造成会聚由所述灯产生的光；以及喷嘴，所述喷嘴包括喷射孔，所述喷射孔构造成喷射气体以便冷却所述金属基部。在包括所述喷射孔的中心轴线的直线与所述金属基部的中心轴线之间的距离的范围为从不小于所述柱形表面的半径的1/2至不大于所述半径。本发明还涉及一种曝光装置和一种物品制造方法。
基本信息
专利标题 ：
光源装置、曝光装置和物品制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114384767A
申请号 ：
CN202111147256.1
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-09-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
富田浩行深泽宽
申请人 ：
佳能株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
柳爱国
优先权 ：
CN202111147256.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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