移动体系统、曝光装置及组件制造方法
专利权的终止
摘要
本发明提供一种移动体系统、曝光装置及组件制造方法。由于通过制动器机构(48A，48B)来阻止晶片载台(WTB)与测量载台(MTB)较预定距离更接近，且能通过驱动机构(34A)解除该制动器机构之阻止作用，因此例如当独立驱动X轴固定件(81，80)时，即使假设有两个载台之至少一方失控的情形，制动器机构亦能阻止各载台彼此之接触，而例如当载台彼此较预定距离更接近时，通过解除机构来解除制动器机构之阻止作用，能在没有制动机构之妨碍的状态下使两载台接近。
基本信息
专利标题 ：
移动体系统、曝光装置及组件制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1993803A
申请号 ：
CN200580025934.X
公开（公告）日 ：
2007-07-04
申请日 ：
2005-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
依田安史柴崎祐一荒井大
申请人 ：
株式会社尼康
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
许海兰
优先权 ：
CN200580025934.X
主分类号 ：
H01L21/027
IPC分类号 ：
H01L21/027 G12B5/00 G03F9/00 H01L21/68
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/027
未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜
法律状态
2013-01-23 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101384118048
IPC(主分类) : H01L 21/027
专利号 : ZL200580025934X
申请日 : 20051124
授权公告日 : 20090520
终止日期 : 20111124
号牌文件序号 : 101384118048
IPC(主分类) : H01L 21/027
专利号 : ZL200580025934X
申请日 : 20051124
授权公告日 : 20090520
终止日期 : 20111124
2009-05-20 ：
授权
2008-01-16 ：
实质审查的生效
2007-07-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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