曝光装置及曝光方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种可以抑制液体的残留的曝光装置。曝光装置(EX)具备：可保持衬底(P)并移动的衬底载台(ST1)；可与衬底载台(ST1)独立地移动的计测载台(ST2)；在衬底载台(ST1)及计测载台(ST2)的至少一个的载台的上面形成液体(LQ)的浸液区域(LR)的浸液机构(12等)。在计测载台(ST2)的上面，设有可回收液体(LR)的回收口(51)。
基本信息
专利标题 ：
曝光装置及曝光方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101598903A
申请号 ：
CN200910149533.5
公开（公告）日 ：
2009-12-09
申请日 ：
2005-10-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
藤原朋春柴崎祐一
申请人 ：
株式会社尼康
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
经志强
优先权 ：
CN200910149533.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2013-07-10 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101628023235
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2009101495335
申请公布日 : 20091209
号牌文件序号 : 101628023235
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 2009101495335
申请公布日 : 20091209
2010-02-03 ：
实质审查的生效
2009-12-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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