曝光方法和装置

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明涉及一种曝光方法和装置，其在对由保护层等对光具有敏感度的感光层叠层而成的印刷电路板等记录介质进行图形曝光时，维持感光层的结合性的同时，防止感光层无法除去，和感光层易于脱落的问题。其是通过曝光装置(3)在对形成于基板上的保护层上的配线图形进行曝光时，使配线区域边缘区域上照射的光的照射能量大于边缘区域之外的区域上照射的光的照射能量。

基本信息

专利标题：

曝光方法和装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1821882A

申请号：

CN200510137365.X

公开（公告）日：

2006-08-23

申请日：

2005-10-10

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

佐佐木义晴

申请人：

富士胶片株式会社

申请人地址：

日本神奈川县

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

朱丹

优先权：

CN200510137365.X

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2009-10-07 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

2007-12-19 ：

实质审查的生效

2007-09-12 ：

专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移

变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 富士胶片控股株式会社
变更后权利人 : 富士胶片株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本国东京都
变更后权利人 : 日本国东京都
登记生效日 : 20070803

2006-08-23 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

1、

CN1821882A.PDF

PDF下载