本实用新型涉及一种曝光机基板载台及曝光机，包括具有用于承托基板的上表面的载台本体；多个且设置在载台本体的上表面的支撑柱；铺设在载台本体的上表面的气垫，气垫上设置有供支撑柱穿过的柱孔；气垫充气后的上表面与支撑柱的上端位于同一水平面。本实用新型在进行曝光作业时，使气垫处于充气状态，此时，气垫的上表面与支撑柱的上端面形成一个支撑基板的平面，基板置于该平面上进行曝光时，由于气垫和支撑柱紧贴基板的下表面，基板下方无空隙，曝光过程中，支撑柱与其他位置的温度和能量差异几乎消失，从而有效避免由于温度差异而产生的stage mura问题，有效增加产品良率，特别时厚度较薄的玻璃基板，改善效果最佳。