一种双面基板对位曝光机

专利权的终止

摘要

本实用新型提供了一种双面基板对位曝光机，包括机架、曝光光源结构架、载片台和水冷式散热器；所述机架的上下两端都设置有所述曝光光源结构架，所述曝光光源结构架的内部设有LED光源，所述LED光源与所述水冷式散热器相连设置，所述曝光光源结构架之间设有所述载片台，所述载片台设有玻璃凹槽，所述载片台的正上方设有盖板，所述盖板与所述机架滑动连接，所述盖板与所述载片台靠近所述机架的一端设有伸缩杆，所述盖板设有玻璃凸起台；所述机架上下两端都设有LED光源以及设有所述玻璃凹槽和所述玻璃凸起台，使得基板可以双面曝光，所述玻璃凹槽更是把基板固定在所述玻璃凹槽内部，即对基板进行了对位定位。

基本信息

专利标题：

一种双面基板对位曝光机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920450991.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-04-02

授权号：

CN210075726U

授权日：

2020-02-14

发明人：

汤志权周正

申请人：

金悦通电子（翁源）有限公司

申请人地址：

广东省韶关市翁源县翁城镇翁城工业园

代理机构：

广州浩泰知识产权代理有限公司

代理人：

李巍

优先权：

CN201920450991.1

主分类号：

H05K3/06

IPC分类号：

H05K3/06 G03F7/20