一种双面自动对位曝光的设备
授权
摘要

本实用新型提供一种双面自动对位曝光的设备,其设备在工件上下料区设置有一下晒框组件,在曝光区设置有上晒框组件与另一下晒框组件,上晒框组件包括上晒框与驱动上晒框进行平移调整对位的上对位机构,下晒框组件包括下晒框、工件定位销以及驱动工件定位销进行平移调整对位的下对位机构,其曝光区还设置有驱动上晒框组件升降的升降动力机构、位于上晒框组件上方的上对位CCD视觉组件以及位于下晒框组件下方的下对位CCD视觉组件,其工件上下料区与其工件曝光区之间还设置有驱动两下晒框组件之间进行交替换位的下晒框动力组件。本技术方案,其可有效解决现有双面自动对位曝光的方法中存在对位精度低、生产效率低、菲林使用成本高等技术问题。

基本信息
专利标题 :
一种双面自动对位曝光的设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020483893.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-03
授权号 :
CN211506169U
授权日 :
2020-09-15
发明人 :
戴童庆代毓平
申请人 :
深圳市大川光电设备有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区西乡街道西乡内环路蚝业物流园A栋9号门2楼
代理机构 :
北京科家知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
宫建华
优先权 :
CN202020483893.0
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G03F9/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-09-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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