双面对版曝光机
专利申请的视为撤回
摘要
本发明双面对版曝光机，采用真空吸盘作为上下掩膜版的固定和可调整对准的机构，利用吸附原理将掩膜版吸在吸盘上，每个吸盘可作多个自由度的调整，具有两个曝光光源并包括一个显微镜。本发明双面对版曝光机可由普通的单面光刻机改造而成。本曝光机可用于制作需双面曝光的各种集成压力传感器和其它半导体器件，以及其它需进行双面图形对准加工的片状材料加工。可曝光硅片最大直径为40毫米，对准偏差小于10微米。
基本信息
专利标题 ：
双面对版曝光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1094827A
申请号 ：
CN93105471.0
公开（公告）日 ：
1994-11-09
申请日 ：
1993-05-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
武世香邹斌陈士芳
申请人 ：
哈尔滨工业大学
申请人地址 ：
150006黑龙江省哈尔滨市西大直街166号
代理机构 ：
哈尔滨工业大学专利事务所
代理人 ：
黄锦阳
优先权 ：
CN93105471.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
1999-08-11 ：
专利申请的视为撤回
1994-11-09 ：
公开
1994-08-03 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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