一种曝光机用曝光尺底片及曝光尺
授权
摘要
本实用新型涉及PCB制造技术领域，公开了一种曝光机用曝光尺底片及曝光尺。所述曝光机用曝光尺底片包括曝光尺底片，所述曝光尺底片上设有时间标示和机台标示。本实用新型的曝光机用曝光尺底片，将所需的时间和机台编号等相关信息制作到曝光机底片上，更方便生产人员对曝光尺需要的信息进行有效识别，在生产时操作人员能够两曝光机设定的MJ值与曝光尺格数一一对应，可以降低操作人员对技能经验的要求，解决因曝光尺所需信息不明确导致生产板报废的风险。
基本信息
专利标题 ：
一种曝光机用曝光尺底片及曝光尺
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122253385.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-16
授权号 ：
CN216210472U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
刘俊峰黄德业关志锋李超谋
申请人 ：
珠海杰赛科技有限公司;广州杰赛电子科技有限公司;广州杰赛科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市斗门区乾务镇富山工业园富山三路1号
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
卢泽明
优先权 ：
CN202122253385.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H05K3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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