曝光机
授权
摘要
本实用新型提供一种曝光机，其包括：曝光台，其具有一工作台面、大跨度行走机构，其包括：沿X方向布置且位于曝光台上方的大跨度行走架、驱动大跨度行走架沿Y方向行走的至少一个第一驱动机构；曝光组件，其设置于大跨度行走架上，并由第二驱动机构带动沿X方向行走；大跨度行走架沿X方向的跨距覆盖曝光机的宽度尺寸，大跨度行走架沿Y方向的运动行程覆盖曝光机的长度尺寸。本实用新型的曝光机通过大跨度行走机构，能够适于大尺寸网版的曝光，增大了曝光的范围。同时，通过采用双驱的方式驱动大跨度行走架的运动，有利于提高运动的稳定性，保证曝光的精度。
基本信息
专利标题 ：
曝光机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922435548.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN211264068U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
张雷
申请人 ：
苏州源卓光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室
代理机构 ：
苏州国诚专利代理有限公司
代理人 ：
杨淑霞
优先权 ：
CN201922435548.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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