确定所关注的参数的值的方法、清除包含关于所关注的参数的信...
授权
摘要
本公开涉及确定图案化过程的所关注的参数的值和清除包含关于所述所关注的参数的信息的信号的方法。在一种布置中，获得辐射的检测到的第一表示与第二表示。所述辐射由通过结构对偏振后的入射辐射的重引导提供。分别从重引导后的辐射的第一偏振分量与第二偏振分量导出检测到的所述第一表示与第二表示。检测到的所述第一表示的不对称性包括来自所述所关注的参数的贡献和来自不对称性的一个或更多个其它来源的贡献。相比于检测到的所述第一表示的不对称性，检测到的所述第二表示的不对称性包括相对于来自所述所关注的参数的贡献更大的来自不对称性的所述一个或更多个其它来源的贡献。检测到的所述第一表示与第二表示的组合用于确定所述所关注的参数的值。
基本信息
专利标题 ：
确定所关注的参数的值的方法、清除包含关于所关注的参数的信息的信号的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111279268A
申请号 ：
CN201880069926.2
公开（公告）日 ：
2020-06-12
申请日 ：
2018-10-10
授权号 ：
CN111279268B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
周子理G·范德祖克N·潘迪M·G·M·M·范卡拉埃吉M·H·M·范维尔特A·齐亚托马斯S·塔拉布林H·D·博斯
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN201880069926.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F1/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2020-07-07 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20181010
申请日 : 20181010
2020-06-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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