消除设计版图公差的缺陷检测方法及装置
授权
摘要

本发明公开了一种消除设计版图公差的缺陷检测方法及装置,方法中包含:采集待测物体的图像,对设计版图的与图像相对应的区域的矢量图进行多边形合并,得到多边形矢量图,根据待测物体与设计版图的公差值对多边形矢量图进行整体缩放,并填充多边形矢量图和背景,生成位图,对比图像和位图,检测出待测物体的缺陷,以及重复此过程,直至检测出待测物体整个检测区域的缺陷。本发明可以消除待测物体与设计版图的公差,进而提高检测精度,同时减少伪缺陷的发生。

基本信息
专利标题 :
消除设计版图公差的缺陷检测方法及装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109709765A
申请号 :
CN201910159105.4
公开(公告)日 :
2019-05-03
申请日 :
2019-03-04
授权号 :
CN109709765B
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
刘若媖刘庄钱锐
申请人 :
江苏维普光电科技有限公司
申请人地址 :
江苏省常州市新北区华山路18号
代理机构 :
常州兴瑞专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
肖兴坤
优先权 :
CN201910159105.4
主分类号 :
G03F1/84
IPC分类号 :
G03F1/84  G03F7/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺,例如清洗
G03F1/84
检查
法律状态
2022-04-01 :
授权
2019-05-28 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/84
申请日 : 20190304
2019-05-24 :
著录事项变更
IPC(主分类) : G03F 1/84
变更事项 : 发明人
变更前 : 刘若媖 刘庄 钱锐
变更后 : 刘若瑛 刘庄 钱锐
2019-05-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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